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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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真空等離子火焰處理機(jī)處理效率高?

真空等離子火焰處理機(jī)處理效率高?
       CRF真空等離子火焰處理機(jī)處理通常需要大約兩到十分鐘。當(dāng)?shù)入x子體處理過程完成時,真空泵去除等離子室內(nèi)的污染物,室內(nèi)材料清潔消毒,可粘接或下一步。
       等離子體是氣體分子。放電等特殊場合形成的物質(zhì)。等離子體清洗/蝕刻形成等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個電極形成電磁場,用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度。隨著氣體越來越薄,分子間距與分子或離子之間的自由運(yùn)行距離也越來越長。在磁場的作用下,碰撞形成等離子體,同時會產(chǎn)生光澤。等離子體在電磁場中的空間運(yùn)行,躍遷被處理物體的表面,然后進(jìn)行表面處理.清洗和刻蝕預(yù)期效果。

等離子火焰處理機(jī)

真空等離子火焰處理機(jī)技術(shù)優(yōu)勢:
1)等離子火焰處理機(jī)清洗后,清洗目標(biāo)干燥,無需干燥處理即可送至下一道工序。可提高所有加工工藝生產(chǎn)線的處置效率;
2)等離子火焰處理機(jī)清洗促使顧客避免有害溶劑對身體的傷害,同時也防止了濕法清洗中容易清洗清洗目標(biāo)的問題;
3)防止使用三氯乙烷等ODS有害溶劑,清洗后不易形成有害污染物,屬于環(huán)保綠色清洗方法。整句智能原創(chuàng),在全球極度關(guān)注環(huán)保的情況下,越來越突出其重要性;
4)選擇無線電波類高頻形成的等離子體不同于激光等直射光。
       等離子體的方向性不強(qiáng),這使得它能夠深入到物體的微孔和凹陷處實(shí)現(xiàn)清潔任務(wù),因此不必過多考慮被清潔物體的外觀。而且這類難清洗部位的實(shí)際清洗效果似乎甚至比氟利昂好。



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