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CRF plasma 等離子清洗機

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等離子清洗機利用活性組分的性質來處理樣品表面的

      等離子清洗機是利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效(果),是一種全新的高科技技術。等離子清洗機具備低溫清洗的優勢,滿足不同場合溫度要求,不會對清洗的產品造成溫度影響。等離子清洗機清洗的原理主要是通過附著力、(活)化、清潔三步驟來完成的。附著力是指提高物品表面的附著力,提高表面粘接的可靠性;活(化)是通過大幅度提高表面的浸潤性能,形成活性的表面;清潔主要是去除微笑塵埃,激(活)鍵能,精細清洗。等離子清洗在手機蓋板應用(十)分廣泛,手機蓋板、手機玻璃、鋼化膜等噴涂前需要采用等離子清洗,增加產品表面潔凈度,可以明(顯)提高表面的活性,從而增強附著效(果)。

      等離子體是物質的一種狀態,也叫做物質的第四態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、活性基團、激發態的核素(亞穩態)、光子等。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面,從而實現清潔等目的。等離子體和固體、液體或氣體一樣,是物質的一種狀態,也叫做物質的第四態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的"活性"組分包括:離子、電子、活性基團、激發態的核素(亞穩態)、光子等。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面,從而實現清潔、改性、光刻膠灰化等目的。

等離子清洗機

      等離子清洗機的清洗原理是等離子體是物質的一種存在狀態,通常物質以固態、液態、氣態三種狀態存在,但在一些特殊的情況下有第四種狀態存在,如地球大氣中電離層中的物質。等離子體狀態中存在下列物質:處于高速運動狀態的電子;處于激(活)狀態的中性原子、分子、原子團(自由基);離子化的原子、分子;未反應的分子、原子等,但物質在總體上仍保持電中性狀態。等離子清洗機的機理,主要是依靠等離子體中活性粒子的“活(化)作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發為等離子態;氣相物質被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子;產物分子解析形成氣相;反應殘余物脫離表面。

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