近年來雖然很多企業(yè)都在使用等離子清洗系統(tǒng)，但是卻很少人知道等離子等離子清洗系統(tǒng)其他的用途是哪些？清洗技術分類又包含哪些，這里小編就來詳細介紹一下這種便攜式等離子清洗系統(tǒng)，它包括主框架、連接主框架的背板和設置在主框架上的外保護外殼。主框架包括反應腔、設置在反應腔一側的調諧網絡、電路系統(tǒng)、控制單元和控制主板。反應腔和調諧網絡位于主框架的上部，電路系統(tǒng)位于主框架的下部，控制單元和控制主板位于主框架的下部和電路系統(tǒng)的背部。它是一種設計緊湊、占地面積小、功能全、成本低的便攜式等離子清洗系統(tǒng)。同時（降）低了等離子清洗系統(tǒng)的使用門檻，為更多行業(yè)和科研機構的技術研發(fā)創(chuàng)造了便捷條件。
       等離子體清洗系統(tǒng)的清洗技術分為幾類？等離子體主要是經過氣體電離行成的，包括電子、離子體、自由基、紫外線等高能物質，具有（激）活產品表面的功能。接下來，CRF將與您分享:

       根據反應類型的不同，等離子清洗系統(tǒng)的清洗技術可以分為兩類:等離子體物理清洗，即利用活性顆粒和高能射線轟擊將污染物分離；等離子體化學清洗，即經過活性顆粒與雜質分子的反應使污染物揮發(fā)和分離。
(1)激起頻率對等離子體的清洗類型有一定影響
例如:超聲波等離子體(激起頻率，40kHz)的反應大多數是物理反應；微波等離子體(激起頻率，2.45GHz)的反應大多數是化學反應；射頻等離子體(激起頻率，13.56MHz)涉及物理化學雙重反應類型。

(2)工作氣體的類型也影響等離子體的清潔類型
例如:Ar2、N2等行成的等離子體常見應用物理清洗，產品表面經過轟擊清洗；反應性氣體O2、H2等行成的等離子體常見應用化學清洗，活性自由基與污染物(大多數是碳氫化合物)發(fā)生化學反應，行成一氧化碳、二氧化碳、水等小分子，從產品表面去除。
(3)等離子清洗系統(tǒng)的清洗方式會影響清洗（效）果
例如:等離子體物理清洗能使產品表面粗糙度增大，并能提高產品表面的附著力；等離子體化學清洗能顯著增強產品表面氧、氮等活性基團，能夠提高產品表面的潤濕性。
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