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CRF plasma 等離子清洗機

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等離子火焰處理機噴涂的單片層研究進展

等離子火焰處理機噴涂的單片層研究進展:
       CRF等離子火焰處理機噴涂技術是1種慣用的鍍層制備工藝。作為所制備鍍層的結構基元,單片層的形貌特征及堆疊行為決定了鍍層的微結構,對鍍層性能產生明顯的作用。
       與熔滴本身理化狀況關聯(lián)的主體要素、與沉積鍍層的襯底關聯(lián)的客體要素以及環(huán)境因素等對單片層形成過程的作用,著重分析了粉體尺寸、襯底預熱過程等產生的各種不同作用以及相互之間的關聯(lián)性,并根據(jù)對各自特點的比較,提出未來與真實生產條件更加接近的方向發(fā)展。

等離子火焰處理機

       隨著工業(yè)技術的不斷發(fā)展,對零配件綜合性能的要求越來越高,表面工程的必要性日趨嚴重。在零配件表面制備厚度數(shù)微米到數(shù)毫米的功能薄層,可以改變零配件的表面性狀,大幅提高其性能,繼而合理延長其使用期限,這合乎環(huán)保、循環(huán)經濟和可持續(xù)發(fā)展的要求。
       熱噴涂是表面工程的重要組成部分,等離子火焰處理機噴涂工藝不斷演化,對噴涂過程的在線監(jiān)測和控制技術也迅速發(fā)展,噴涂材料種類也不斷擴展,形成了包括設備、原料、工藝及應用的完整工業(yè)體系。
       等離子火焰處理機噴涂(APS)是熱噴涂技術的1種,其特征是以高溫高速的等離子體射流為熱源,在制備陶瓷涂層方面具有獨特的優(yōu)勢。

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