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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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等離子設(shè)備在二極管塑料橡膠中的使用情況有什么不同

       發(fā)光二極管封裝企業(yè)紛紛尋求在生產(chǎn)過程中實(shí)現(xiàn)高端智能化、生產(chǎn)線自動化改造的巨額投資,但收效并不理想。因此,在發(fā)光二極管封裝行業(yè),建立自動化概念很重要,成本控制也可以精細(xì)管理。等離子清洗是發(fā)光二極管行業(yè)不可或缺的一部分。等離子清洗機(jī)在發(fā)光二極管行業(yè)的應(yīng)用主要包括三個(gè)方面:

       第壹,在銀膠被點(diǎn)擊之前:基片上的污染物會使銀膠變成球狀,不利于芯片粘貼,容易造成芯片手易損壞。射頻法等離子法可大大提高工件表面的粗糙度和親水性,有利于銀膠的平鋪和片狀粘接,同時(shí)可大大減少銀膠的用量,降(低)成本。
       引線連接前:芯片基片上,經(jīng)過高溫固化化后,基片上的污染物可能含有顆粒和氧化物。這些污染物通過物理和化學(xué)作用導(dǎo)致導(dǎo)線與芯片和基片焊接不完整或粘結(jié)不良,連接強(qiáng)度不足。RF等離子處理能顯著提高引線連接前的表面活性,提高連接強(qiáng)度和拉伸均勻性。鍵合刀頭的壓力可以更低(當(dāng)有污染物時(shí),鍵合刀頭需要更大的壓力才能穿透污染物)。在某些情況下,鍵合溫度也可以降(低),從而增加產(chǎn)量和成本。
       LED密封前:污染物在LED注入環(huán)氧橡膠時(shí),氣泡形成速度過快,降(低)產(chǎn)品質(zhì)量和壽命,密封時(shí)不產(chǎn)生氣泡也值得關(guān)注。射頻等離子體清洗后,晶片與基片緊密結(jié)合,大大降(低)氣泡形成,大大提高散熱和發(fā)光率。


然而,整個(gè)發(fā)光二極管行業(yè)包裝中使用的真空等離子清洗機(jī)數(shù)量相對較多,基本上是在線的。原因是成本相同,在線等離子清洗機(jī)生產(chǎn)能力大,效率高,性價(jià)比高。但從整個(gè)行業(yè)的發(fā)展趨勢來看,在線等離子清洗機(jī)是一個(gè)大趨勢。但是,在線等離子清洗機(jī)可以與全自動生產(chǎn)線連接,實(shí)現(xiàn)全自動運(yùn)線下等離子清洗機(jī)則需要人工上下料。真空等離子體清洗機(jī)。

等離子設(shè)備

       等離子清洗機(jī)是一種依靠處于“等離子態(tài)”的物質(zhì)的“活化作用”,來去除物體表面污漬的一種清洗方法。它屬于電子工業(yè)清洗中的干法清洗,過程中需要真空泵制造一定的真空條件滿足清洗所需。下面來看看等離子清洗機(jī)的作業(yè)流程及注意事項(xiàng)。
       一、低溫等離子清洗機(jī)在運(yùn)行時(shí)對電源的要求是:交流220V/380V頻率為50/60Hz,也有3/12.5kw,具體選用哪種配置根據(jù)需求來定,應(yīng)在啟動前做好電源的接通和檢查工作,設(shè)備運(yùn)行后應(yīng)發(fā)出平滑的運(yùn)轉(zhuǎn)聲,且通常有綠色指示燈常亮以顯示設(shè)備正常運(yùn)行,如有黃色故障燈亮起,應(yīng)停止運(yùn)行進(jìn)行檢修。
       第二、塑料產(chǎn)品與橡膠模具在使用低溫等離子清洗機(jī)時(shí),要特別注意紅色警示燈,在設(shè)備運(yùn)行或抖動頻繁時(shí),紅色警示燈常亮,此時(shí)應(yīng)立即按下復(fù)位鍵觀察設(shè)備,若設(shè)備仍有異常,應(yīng)立即停止設(shè)備運(yùn)行,然后進(jìn)行故障檢查,避免設(shè)備損壞。
       第三、塑料產(chǎn)品與橡膠模具在使用低溫等離子清洗機(jī)時(shí)要定期清洗,而清洗時(shí)必須先斷開電源,然后才能打開腔體和電控箱,并且要注意按照說明書所要求的規(guī)范進(jìn)行清洗,除此之外,現(xiàn)在許多低溫等離子清洗機(jī)腔體都是外置式環(huán)形電級別,因此不易出現(xiàn)內(nèi)腔污染。
  等離子清洗等離子清洗所需要的等離子體主要通過特定的氣體分子在真空、放電等特殊場合下產(chǎn)生,像低壓氣體輝光等離子體。其主要過程包括:首先將需要清洗的工件送入真空室固定,啟動真空泵等裝置開始抽真空排氣到10Pa左右的真空度;接著向真空室引入等離子清洗用的氣體(根據(jù)清洗材質(zhì)的不同,選用的氣體也不同,如氧氣、氫氣、氬氣、氮?dú)獾?,并將壓力保持在100Pa左右;在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加高頻電壓,使氣體被擊穿,并通過輝光放電使其發(fā)生離子化,產(chǎn)生等離子體;在真空室內(nèi)產(chǎn)生的等離子體完全覆蓋被清洗工件后,開始清洗作業(yè),清洗過程會持續(xù)幾十秒到幾分鐘。

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