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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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CRF等離子體表面處理儀在基材封裝、焊接前的生產(chǎn)中清洗

CRF等離子體表面處理儀在基材封裝、焊接前的生產(chǎn)中清洗:
一、等離子體表面處理儀-倒裝焊接
       在芯片倒置封裝方面,清潔芯片和載體的等離子體,提高其表面活性,然后進(jìn)行倒置焊接,可有效防止或減少孔隙,提高附著力。另一個(gè)特點(diǎn)是提高填料邊緣的高度,提高封裝的機(jī)械強(qiáng)度,減少材料之間不同熱膨脹系數(shù)引起的剪切應(yīng)力,提高產(chǎn)品的可靠性和壽命。

等離子體表面處理儀

二、等離子體表面處理儀-芯片粘結(jié)
       等離子體表面清潔可用于芯片粘接前的處理。由于未經(jīng)處理的材料表明其表面粘結(jié)性能通常較差,在粘結(jié)過程中容易在界面上產(chǎn)生空洞。激活表面可提高環(huán)氧樹脂等聚合物材料的表面流動(dòng)性,提供良好的接觸表面和芯片粘結(jié)滲透性,有效防止或減少空洞的形成,提高導(dǎo)熱性。所使用的表面激活過程是通過氧、氮或其混合物等離子體完成的。微波半導(dǎo)體器件在燒結(jié)前用等離子體清洗管座,對保證燒結(jié)質(zhì)量非常有效。
三、等離子體表面處理儀-導(dǎo)線框架
       鉛框架在今天的塑料密封中仍占有相當(dāng)大的市場份額,主要由導(dǎo)熱性、導(dǎo)電性和加工性能良好的銅合金材料制成。然而,銅的氧化物和其他污染物會導(dǎo)致模塑和銅鉛框架的分層,影響芯片粘合劑和鉛鍵的質(zhì)量,確保鉛框架的清潔是確保封裝可靠性的關(guān)鍵。研究表明,氫氬混合物的刺激頻率為13.56MHz,引線框架金屬層上的污染物可有效去除,氫等離子體可去除氧化物,氬離子化可促進(jìn)氫等離子體數(shù)量的增加。
三、等離子體表面處理儀-管座管帽
      如果管座和管帽存放時(shí)間長,表面會有舊痕跡,可能會有污染。首先清潔管座和管帽的等離子體,去除污染,然后封蓋,可以顯著提高封蓋的合格率。陶瓷封裝通常使用金屬漿印刷線作為鍵合區(qū)和蓋板密封區(qū)。電鍍在這些材料的表面Ni,Au用等離子體清洗前,去除有機(jī)污染,提高涂層質(zhì)量。
       光電子,微電子,MEMS在封裝方面,等離子體技術(shù)廣泛應(yīng)用于封裝材料的清潔和激活。解決電子元件表面污染、界面狀態(tài)不穩(wěn)定、燒結(jié)、鍵合不良,提高質(zhì)量管理和工藝控制能力,提高質(zhì)量管理和工藝控制能力,提高材料表面特性,提高封裝產(chǎn)品性能,選擇合適的清潔方法和清潔時(shí)間,提高封裝質(zhì)量和可靠性非常重要。

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