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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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誠(chéng)峰智造plasma改性超微細(xì)玻璃粉表層聚合的SiO聚合物

誠(chéng)峰智造plasma改性超微細(xì)玻璃粉表層聚合的SiO聚合物:
       電子漿料中的超微細(xì)粉體通常是無機(jī)粉體,其大粒度不超過15pum,平均粒徑小于5pum,比表面積大,容易發(fā)生團(tuán)聚形成大的二次顆粒,在有機(jī)載體中難于分散。而在有機(jī)載體中分散的均勻性和穩(wěn)定性,對(duì)漿料的印刷性能以及制備的電子元器件性能影響較大。用六甲基二硅氧烷(HMDSO)為單體,用plasma改性在無機(jī)玻璃粉表面聚合包覆硅氧聚合物薄層,改善其在有機(jī)載體中的分散性能以及調(diào)節(jié)電子漿料的流變性、印刷適性和燒結(jié)性能,提升電子漿料性能以滿足新型電子元器件和絲網(wǎng)印刷技術(shù)進(jìn)步的要求。影響plasma改性聚合的參數(shù)有:本底真空度、工作氣壓、單體HMDSO與工作氣體氬氣的比例、電源功率、處理時(shí)間、工作溫度等。

plasma改性

        未經(jīng)處理的粉體壓片,在接觸角測(cè)量時(shí),質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.1%的高錳酸鉀水溶液,在粉體壓片表面瞬間吸收,而處理后粉體壓片,液滴能在上面穩(wěn)定存在而不潤(rùn)濕粉體。放電時(shí)間越長(zhǎng)、氣體中單體濃度越高、電源功率越高,粉體接觸角越大。這主要是由于在粉體表面聚合形成的低表面能SiOx聚合物越多,表面疏水性越強(qiáng)。

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